衬底生成项目组中，

    π成员包括我们三加上葛巧巧，以及研究数十名技术骨干，一些工作已经展开了。」

    「工艺很复杂，但工艺的基础是设备，在这方面我们已经有了积累，」

    「作为功率模块的上游，部分设备可以共用，『高温粉末反应炉」和『PVT晶体生长炉」将是项目攻克的核心.：：」

    穿上了无尘服，男女更衣间里各自走出，三人再度汇合。

    一连串消毒出尘工作，对於从未在「机核半导体」工作过的周墨有些陌生，不过有样学样倒也没出差错。

    很快，他就看到了这处实验室的真正内容。

    一台组装进度一半左右的大型设备。

    翟达介绍道：「高温反应炉在另外的地方，那边主要是葛巧巧负责，这台是PVT..：」

    「PVT技术应用很广泛，历史悠久，不过针对不同物质需要一些调整，以前我们还得买个原型机回来，这次有基础了可以从零开始..：」

    简单比喻一下衬底生成，就是将纯度大於99.9995%的碳粉和矽粉混合，在20000°下化学反应生成「碳化矽颗粒」。（依托高温反应炉）

    然後再换个设备，将「碳化矽颗粒」加热至2300C°使其气化升华，通过高低温分区，使其均匀的凝结在指定位置上，物理原理和「冷凝水」类似，只不过是固体。

    这一过程就叫「物理气相传输法（PVT）」，速度很慢，一天只能成长3mm。

    PVT得到的是一块圆柱形的「晶锭」，要用金刚石线切割成1毫米以下的薄片，再反覆打磨、打磨再打磨...就是他们平时用的「衬底」了。

    之所以慢成这个逼样子，是因为碳化矽在常规条件下没有液态，只能用升华气态再凝固的笨办法，而矽基晶片同环节中有液态，可以做「熔融拉晶」，效率是碳化矽的数百倍。

    目前来说，翟达也没有什麽太好的办法，虽然理论上碳化矽在10Gpa，也就是一万倍大气压下可以液化，但那又会涉及到如何精准控制确保均匀的问题。

    产业技术永远不是单纯的物理参数，那样的特殊设备造出来，也没有量产的能力与意义。

    当下产业界的规划方向里，也有一些新点子，比如YMUS超声喷涂技术、液相法（LPE），或者乾脆找一些催化剂进行化学沉积（CVD）.：：

    但产业技术不是单纯物理参数的同时，也不会是单纯的研究室行为。

    花费许多时间去硬钻牛角尖，反而可能导致市场变化、失去领先地位。

    现阶段，英飞凌和研究院不清不楚的关系，让翟达很有危机意识。

    他丝毫不怀疑，只要白宫开始吟唱了，英飞凌立刻就会半推半就，弃明投暗。

    咱做事啊，要分得清主要矛盾和次要矛盾，比如，要先解决对手「死不死」的问题。

    确认死了，坟头蹦迪再整花活为时不晚。

    超声喷涂也好，液相法也好，以後都会有的。

    所以他还是老思路：大的，就是好的！

    如同超大腔体CVD一样，他的还是寄希望於强大的「系统工程全局化能力」，朝多腔体并行生长的方向走，能效大概能提升3-5倍，加之国内的产业链优势，本就比德国廉价，整体提升依旧显着。

    周墨蹲下从各个角度往里看，出言道：「感觉进度已经很高了，会长真厉害。」

    翟达：「不光是我的功劳，研究院和『机核半导体」的数十名工程师都有参与，只是今天国庆後第一天上班，还没准备好罢了。」

    他将两队人分成了AB两组，并非天天在这猫着，而是根据他-->>

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