>    黄新华继续道：

    “对了，你刚刚说有提升集成度的新方法，不知道是什么？”

    “集成度进入40w这个领域之后，现在突破一直进展得十分缓慢。”

    “如果没有意外的话，恐怕要一两年的功夫，我这边才能突破到100w，达到你先前的要求。”

    40w，已经是一个相当不错的集成度数据。

    不过依旧没有办法完全满足威龙-1战斗机和玄武-1主战重坦的机载计算机要求。

    举个最简单的。

    处理器方面，最低的标准，都是16位。

    使用8位的话，战斗力无疑会大打折扣。

    当然，40w也勉强能够搞出最早期的16位处理器来使用。

    不过效果只怕会不尽人意。

    这也是李暮提出100w作为基础标准的原因。

    他想了想，道：

    “我的意见是继续在光源、光学系统、掩模技术、光刻胶材料、机械和控制系统上进行创新。”

    “就拿光源来说。”

    “现在我们的分布式投影光刻机，主要采用还是汞灯光源，主要是g线和i线的紫外光……”

    他缓缓地开始讲述。

    黄新华和王绶觉两人，也迅速熟练地从口袋中掏出纸笔，开始记录。

    一旁的吴有望也没有闲着，不停地为他们泡茶倒茶。

    “光源上我们可以向准分子激光光源靠近，如KrF248和ArF193，甚至采用极紫外光源。”李暮做了个小小的总结。

    当然，最后的极紫外光源，就是提出来凑个数，让黄新华等人先有个概念而已。

    毕竟在未来，突破极紫外光刻技术，将是夏国势在必行的研究计划。

    ……

    说完了光源。

    李暮接着又说起光学系统。

    现在他们的光学系统，还属于相对初级阶段。

    主要采用的是2:1投影光学系统。

    这种技术将掩模上的图案以2:1的比例投影到晶圆上，设计相对简单，分辨率也受到不小的限制。

    如果可以提升到4:1，甚至是5：1的话。

    解决100w集成度的标准，不会有任何问题。

    除此之外，还可以在高数值孔径透镜和浸没式光学系统方面下功夫。

    只不过以目前的技术来说，想要同时推进三者的研究，难度实在太大了。

    好在也没必要在光学系统上死磕。

    掩模技术上可以搞相移掩模、光学邻近矫正和多重图案技术。

    光刻胶材料朝着深紫外光刻胶的方向发展。

    机械和控制系统就去研制精密对准和调平系统。

    多管齐下的话。

    足够在短时间内实现集成度的迅速突破。

    ……

    用了两个小时左右的时间。

    李暮才将所有的内容都阐述完毕。

    他说完后。

    黄新华“唰唰~”地记完最后一笔，当即惊叹道：

    “没想到你竟然还能找出这么多的办法，这下100w集成度的问题就都解决了！”

    他忽然有点理解M帝和老大哥那边的心情了。

    自己连落后的技术都还没有研究出来。

    李暮这边一出手就是一堆的更新的方案，差距简直不要太明显。

    而且他几乎可以肯定，这些方-->>

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