面临的问题，主要分为光源和掩膜以及投影光学系统等。

    极紫外光刻机光源发出的极紫外光线，极其容易被物质吸收。

    光束经过多次反射后，只有不到2%的光线能使用。

    能量转化率极低。

    因此需要强大光源，来保证射线光源足够强。

    另外极紫外光波长为13.5nm，由于容易被镜头玻璃等材料吸收，还会被空气和气体吸引影响折射率变化。

    腔体需要采用真空系统。

    投影光学系统则必须使用反射镜代替透镜，这使得反射镜的精度要求很高，同时制造成本昂贵。

    掩膜方面因为极紫外光线的特殊性，普通掩膜版非常容易破坏，这就需要研发出特殊的掩膜版。

    可以说这几项问题每个单独拿出来，都需要研究所进行大量长时间的研究。

    并且还不见得一定会有成果。

    足可见制造整台极紫外高端光刻机的难度。

    也怪不得海外半导体领域有恃无恐，并不担心他们能够实现高端芯片制造产业链国产化。

    幸好高端光刻胶的问题已经解决，否则便相当于是又增加了难度。

    徐昀弄清楚这些的同时自然也有了方向，这时面对罗长辉的询问并未隐瞒什么，当即便大方讲出了自己接下来的规划。

    “我打算先解决光源问题。”

    在场的研究员很清楚这些问题都要解决，先主攻哪个并无多大区别。

    自然不会对徐昀的决定提出质疑。

    相反听到这个答案后纷纷点头表示附和。

    “光源确实是非常重要的问题，我们现在所能制造出的极紫外光源，功率方面根本达不到要求。”

    “我没有意见。”

    “我也支持徐教授的决定。”

    徐昀对大家的表现非常满意，但若认为他只能做到这种程度可就大错特错了。

    没等大家回过神来，他便又丢出一颗重磅炸弹。

    “之后一段时间我会拿出光源的设计方案，另外后续我也会完成光学系统和掩膜的方案，到时候就要拜托大家合力将光刻机完成。”

    如果说刚才大家对徐昀短时间看完全部资料只是意外和吃惊。

    那么此刻听完这句话后，表情霎时间便僵硬在了脸上完全处于懵圈状态。

    瞳孔骤缩仿佛发生了地震。

    不敢相信自己究竟听到了什么。

    短时间拿出光源设计方案也就罢了，竟还表示掩膜和光学系统同样不会少，关键听这话的意思似乎还是徐昀要独立完成方案。

    哪怕徐昀拥有极高的天赋，并且创造出了多项奇迹推动行业变革。

    他们也想象不到这种可能。

    作为光刻机项目的老成员，没有人比他们更清楚其中的困难程度。

    只能说徐昀的话不像去研发光刻机的人，反倒是已经掌握了全部的技术。

    直接把相关设计方案从脑子里拿给他们去完成。

    但这显然是不可能的。

    奈何徐昀的语气又充斥着自信，整个人一副胸有成竹的模样。

    让他们实在不好判断具体状况。

    伴随长时间的沉默在房间里蔓延开来，使得氛围显得诡异起来。

    至于后面刘星等数位还是博士后的研究员助理，此刻更是大气不敢出。

    不知过去多长时间，仍是罗长辉最先平复下来，脸色无比凝重的向徐昀追问道：“这几项都属于极紫外光刻机中的核心问题，徐教授真有把握-->>

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