光刻胶（436nm）都属于低端光刻胶，但是g线光刻胶主要用于500nm以上尺寸半导体工艺，而i光刻胶用于350-500nm之间工艺，可用于6寸和8寸两种晶圆片，市场需求相当旺盛。而g线光刻胶基本上只能用于6寸晶圆片。

    众所周知，晶圆越大，同一圆片上可生产的IC芯片就多，效率和利润也就更高！

    先进的光刻机有了，i线光刻胶也有了，如果再把其他生产设备的技术提高一些，那么未来几年内，无疆微电子公司或许能够建立一座8寸晶圆厂！！！

    据了解，世界上第一座8寸晶圆厂也就是在1990年建成的。

    赵烨不禁有些兴奋，若是无疆微电子公司能第一个建成一座8寸晶圆厂，必定激奋人心！！！

    (本章完)