来安布雷拉的技术产出的新镜片，更是加强了这一点，安布雷拉自己的光刻机就是利用了这一点弯道超车，在不使用浸润法的情况下超过了我们的效率！”

    阿斯麦没有去贬低安布雷拉，甚至还可以说在旁边吹嘘。

    因为只有将安布雷拉的强大体现出来，才能说明他们更强！

    这是一个强大的对手，但还是输了，输在了我们面前！

    “但，这一点对EUV光刻机却是不行，我们使用的13.5nm波长极紫外线电离能力极强，没有镜头可以适合这种精度下让这种高能光束通过，所以唯一可以选择的办法，只有反射！”

    一边说着，全息图像上也进行了改变，讲解了一下大概的原理。

    就是不断利用一些镜片的反射来完成对极紫外线的汇聚。

    总共要完成十几次的反射才能达到最后的曝光要求！

    “这对于反射镜片的精度需求可以说是极高的，要感谢卡尔蔡司公司在这方面的付出。”

    说完就对旁边卡尔蔡司的工程师做出了一个请的手势。

    卡尔蔡司公司的工程师也顺势站了出来礼貌的说道

    “我们同样利用到了安布雷拉的技术涂层，不过当然，就精度方面，我们还是有点自信的……”

    随后，阿斯麦的代表又介绍了他们的EUV光源。

    “之前说了，极紫外线需要通过十几次反射才能达到我们的效果，而因为极紫外线的电离消耗，每次反射都会损失大概30%左右的能量，最终我们能够有效利用的光只有大概2%，因此，我们需要光源有着足够且稳定的输出功率，为了克服这个问题Cymer公司可是花费了整整十年的时间来攻克，不过Cymer公司在三年前已经被我们公司完成了收购……”

    一边说着，他一边继续外放了全息画面，里面连原理都出来了，就是用高能激光不断轰击液态金属滴，难度和精确度看着他提供的数据就让人头皮发麻。

    只是制造出来不难，可要保持稳定和持久，还有足够输出功率的光源，那就要确保每次的撞击都极为精准，且频率要足够高。

    不断轰击滴落的金属液滴，各方面稍微有一点失误都是完全不同的。

    再后面随着不断的介绍，观众也明白了这台机器是怎么样组合起来的怪物。

    大漂亮的光源技术，霓虹的光源转换设备，高卢的阀件，普鲁士的镜头，瑞典的轴承，都需要极为精密，缺一不可，连安装都要极为精细要避开周边环境的轻微震动。

    甚至连运输光刻机的车辆，都是某积电的专利技术！

    直播到这里，很多观众眼里也就看明白了问题所在。

    EUV光刻机绝不是一个两个技术的问题，而是汇聚了全球所有最顶级的科技。

    而这些顶级巨头汇聚在一起，就是为了压下安布雷拉公司。

    还是直接靠着技术代差，一口气完成碾压的方式！

    这本身，也是一种秀肌肉的表现！

    如今，主流的芯片工艺才到14nm。

    然而EUV光刻机的理论极限却是能达到硅基芯片的极限，可以达到1nm！

    如果能解决隧穿问题，甚至还能更低！

    是，这不符合商业规律和利润。

    没有慢慢的更新迭代来进行收割。

    但没办法，安布雷拉这边杀出来太强了，他们的DUV光刻机性能太好，而且芯片简直就是处于黑盒状态完全摸不清。

    这种情况只能一口气拿出最好的将他们直接打倒。

    虽然芯片方面一下透支到了极限，但却可以在量子计算+超算以及人工-->>

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