“我来协调。”行政主管连道。

    “我会帮忙。”王院士跟着说道。

    “……”

    午后两点，长光所副所长张学君等人，大部分合作的科研单位代表都来到了梼杌实验室。

    方年坐在居中位置。

    神态轻松自如。

    令人不敢忽视。

    张学君也想起了两年多前的那次会面，实在没想到再见面时会是这样的光景。

    方年目光扫过与会众人：“各位下午好，我是方年，初次见面，请多关照。”

    “方总好。”

    “方总太客气了。”

    “……”

    简单的寒暄过后，方年直截了当道：“恕我冒昧，为了不耽误大家更多的时间，我就开门见山了。”

    “庐州前沿正在建设一条12寸晶圆测试线，为了配合这条测试线，梼杌这边将全面进军EUV光刻研究，希望大家能给予必要支持。”

    此话一出，众人皆愣。

    包括梼杌的王院士。

    “EUV？”张学君挑了下眉，斟酌着说道，“方总，冒昧问一句，你好像对极紫外情有独钟？”

    “理论上只有最尖端光刻需要用到极紫外光刻，DUV(深紫外)借住浸入式方案理论上可以做到7nm光刻，似乎没必要全面进军EUV？”

    “……”

    在座众人都是懂行人士，纷纷发表了各自的看法。

    比如DUV技术积累等等问题。

    毕竟梼杌实验室名字里的‘半导体设备’五个字有85%是针对：

    集成电路前道制造光刻机。

    光刻机其实是个泛称，内里可细分为前道制造、后道封装、应用于TFT(薄膜晶体管)的光刻、应用于中小基底先进光刻等的光刻机。

    一般大众认知范围内的光刻机是集成电路前道制造光刻机……

    听着大家的不同意见，方年微微一笑：“DUV不是有各位在努力吗？”

    “前沿不能白叫前沿这个名字，而且EUV这个领域基本上属于赢家通吃，很符合前沿的目标。”

    王院士立马道：“可是ASML的EUV实验机去年就运到了台积电使用。”

    “……”

    “这个领域需要很庞大的投入。”

    “……”

    方年当然知道。

    他更清楚的是，全球范围内EUV光刻机的差距其实不太大。

    要么就是没想过，要么就是放弃了。

    唯一一家至死不渝坚持到底的是ASML。

    有意思的是，最终水准其实取决于砸钱程度以及对技术整合的程度。

    当然，ASML快得很，06年开始投入，去年推出了首台EUV工程原型机，而且还有台积电这个大客户在使用、验证、反馈。

    但……

    ASML很缺钱，方年曾看过的所有与ASML有关的媒体报道都提到了ASML在2012年7月份发起的客户联合投资计划。

    这份计划募集了超过50亿欧元的资金，其中一半用于EUV光刻研发。

    且因为始终未实现EUV光刻机的大规模量产，以至于参与这份计划的三星、台积电、英特尔先后减持了股份。

    钱这东西，前沿也缺。

    但前沿在某种意义上可以不缺钱……

    等众人讨论完，方年淡然道：“前沿计划今年内首批投入10亿美元，包括但不限于面-->>

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